一 、超精密研磨拋光概述

　　超精密加工技術(shù)標(biāo)志著一個(gè)國(guó)機(jī)械制造業(yè)的水平，在提高光機(jī)電產(chǎn)品的性能、 質(zhì)量、壽命和研發(fā)高科技產(chǎn)品等方面具有十分重要的作用。當(dāng)前，超精密加工是指加 工誤差小于 0.01?m、表面粗糙度小于 Ra0.025?m 的加工，又稱之為亞微米級(jí)加工?，F(xiàn)在，超精密加工已進(jìn)入納米級(jí)，稱之為納米加工。

　　在超精密加工中，超精密切削、超精密磨削的實(shí)現(xiàn)在很大程度上依賴于加工設(shè)備、 加工工具以及其它相關(guān)技術(shù)的支持。并受其加工原理及環(huán)境因素的影響和限制，要實(shí) 現(xiàn)更高精度的加工十分困難。而超精密研磨拋光由于具有獨(dú)特的加工原理和對(duì)加工設(shè) 備、環(huán)境因素要求不高等特點(diǎn)，故它可以實(shí)現(xiàn)納米級(jí)甚至原子級(jí)的加工，已成為超精密加工技術(shù)中的一個(gè)重要部分。

　　二、幾種超精密研磨拋光方法

　　2.1、基于機(jī)械作用的超精密研磨拋光方法

　　基于機(jī)械作用的超精密研磨拋光方法是依靠微細(xì)磨粒的機(jī)械作用對(duì)被加工表面 進(jìn)行微量去除，達(dá)到高精度的加工表面。

　　2.1.1、彈性發(fā)射加工

　　彈性發(fā)射加工是一種可以獲得較高的加工精度和較低的表面粗糙度的超精密研磨方法。其加工原理如圖1所示(圖1略)。

　 　加工時(shí)使用聚氨脂球作加工頭，在高速旋轉(zhuǎn)的加工頭與被加工工件表面之間加上含有微細(xì)磨粒(0.1～0.01μm)的研磨液，并產(chǎn)生一定的壓力。通過(guò)高速 旋轉(zhuǎn)的加工頭所產(chǎn)生的高速氣流及離心力，使磨粒沖擊或擦過(guò)工件表面，產(chǎn)生彈性破壞物質(zhì)的原子結(jié)合，從而去除工件表面的材料。它可使材料內(nèi)部不產(chǎn)生錯(cuò)位和缺 陷，但又可以產(chǎn)生微量的"彈性破壞"(即無(wú)干擾的加工)，從而實(shí)現(xiàn)原子級(jí)加工。并可獲得非常良好的表面。在加工硅片時(shí)，可獲得相當(dāng)于腐蝕加工一樣的無(wú)缺陷 表面。如果對(duì)聚氨脂球和工作臺(tái)采用數(shù)控裝置，則能對(duì)工件進(jìn)行曲面加工。它既可實(shí)現(xiàn)原子級(jí)彈性去除，又可獲得比較好幾何形狀精度。圖2為數(shù)控彈性發(fā)射加工裝置 (圖 2略)。整個(gè)裝置是一個(gè)三坐標(biāo)數(shù)控系統(tǒng)，聚氨酯球裝在數(shù)控主軸上，由變速電動(dòng)機(jī)帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)，其負(fù)載為 2N。在加工硅片表面時(shí)，用直徑為 0.1?m 的氧化鋯微粉，以 100m/s速度及水平面成 20°的入射角向工件表面發(fā)射，其加工精度可達(dá)±0.1?m，表面粗糙度 Ra0.0005?m 以下。

　　2.1.2、浮動(dòng)研磨拋光

　 　浮動(dòng)研磨拋光的加工原理圖如圖3所示(圖3略)。它利用流體力學(xué)原理使拋光器與工件浮離，在拋光器的工件表面做出了若干楔槽，當(dāng)拋光器高速旋轉(zhuǎn)時(shí)，由于 油楔的動(dòng)壓作用使工件或拋光器浮起，其間的磨粒就對(duì)工件表面進(jìn)行拋光。浮動(dòng)拋光能夠加工出平面度很高的工件表面，沒(méi)有端面塌邊及變形缺陷。浮動(dòng)拋光可以用 于計(jì)算機(jī)磁頭磁隙面。光學(xué)零件及功能陶瓷材料基片的超精密加工，通過(guò)選擇合適的拋光液和化學(xué)添加劑可防止出現(xiàn)晶界差，即使是多晶體材料也能獲得表面粗糙度為 Ra0.002?m 的表面。使用極軟的石墨和溶于水的 LiF 來(lái)拋光很硬的藍(lán)寶石{0001}。其表面粗糙度可達(dá)到 Ra0.00008?m。采用浮動(dòng)研磨拋光，不需使用夾具，端面塌邊半徑可小至 0.01?m。經(jīng)過(guò)浮動(dòng)研磨拋光的表面具有良好的結(jié)晶特性，同時(shí)加工表面沒(méi)有殘余壓力。

　　2.1.3、磁力研磨

　　磁力研磨是利用磁場(chǎng)作用進(jìn)行研磨加工的新方法，它能迅速地對(duì)各種材料、尺寸和結(jié)構(gòu)的零件進(jìn)行超精密加工，是一種投本少、效率高、用途廣、質(zhì)量好的研磨加工方法。

　　(1)磁性浮動(dòng)研磨。它是通過(guò)在磁場(chǎng)作用下形成的磁流體(由磁性顆粒、表面活性劑和液相載體如水、油組成)使懸浮其中的非磁性磨料在磁流體的流動(dòng)和浮動(dòng)作用下壓向旋轉(zhuǎn)的工件進(jìn)行研磨及拋光，從而提高精整加工的質(zhì)量和效率。它可以獲得Ra?0.01?m 的無(wú)變質(zhì)層加工表面，并能研拋表面形狀復(fù)雜的工件。 該加工工藝起源于 20 世紀(jì) 40 年代的美國(guó)，經(jīng)過(guò)不斷地對(duì)其工藝及設(shè)備的拓展和完善，并應(yīng)用有限元法模擬磁性拋光過(guò)程，分析磁流體及磨粒在磁感應(yīng)下的運(yùn)動(dòng)特性，推動(dòng)了這項(xiàng)工藝的發(fā)展的應(yīng)用。

　 　(2)磁性磨料的磁力研磨。其原理圖如圖4所示(圖4略)。磁力研磨時(shí)，工件放入由兩磁極形成的磁場(chǎng)中，在工件和磁極的間隙中放入磁性磨料。在磁場(chǎng)力的 作用下，磨料沿磁力線方向整齊排列，形成一只柔軟且具有一定剛性的"磁研磨刷"。當(dāng)工件在磁場(chǎng)中旋轉(zhuǎn)并作軸向振動(dòng)時(shí)，工件與磨料發(fā)生相對(duì)運(yùn)動(dòng)，"磨料刷" 就對(duì)工件表面進(jìn)行研磨加工。

　　磁力研磨具有下面特點(diǎn)：(1)通過(guò)改變磁場(chǎng)的強(qiáng)度可以容易地操作研磨壓力;(2)由于磁極與工件表面之間有加工間隙(1～4mm)，因此通過(guò)"磨料刷"進(jìn)行 柔性研磨，不但可用于圓柱和平面研磨，還可以進(jìn)行異形表面及自由曲面的研磨;(3)在磁極結(jié)構(gòu)一定的情況下，通過(guò)磁感應(yīng)強(qiáng)度，即可調(diào)節(jié)磨削力，加工過(guò)程很容易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化;(4)磨料沿加工表面不斷滾動(dòng)和更換位置，使其具有良好的自銑性; (5)磁性材料被約束在磁極之間，不會(huì)污染操作環(huán)境; (6)加工效率高;(7)既可磨削鐵磁性材料，也可磨削非鐵磁性材料。

　 　磁力研磨適用于精密零件的研磨、拋光和去毛劑，如軸承的內(nèi)外滾道、滑閥、齒輪泵、印刷電路板、模具、表殼、葉片等。它不但可用于以鐵和碳素鋼、合金鋼等 磁性材料制造的零件，也適用于黃銅、不銹鋼和鈦合金等非磁性金屬材料，以及陶瓷、硅片等非金屬材料。由于磁力研磨具有適應(yīng)性強(qiáng)、應(yīng)用范圍廣等好的點(diǎn)，所以它 是一種極有前途的超精密加工方法。今后磁力研磨將會(huì)向以下兩個(gè)方向發(fā)展：(1)研制開(kāi)發(fā)導(dǎo)磁性更好、強(qiáng)硬度更高的新的磁性磨料; (2)利用旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)對(duì)形狀復(fù)雜的零件進(jìn)行研磨加工。

　　2.1.4、電解磁力研磨拋光

　 　電解磁力研磨拋光是由電化學(xué)加工和磁力研磨兩種工藝復(fù)合而成。其加工原理圖如圖5所示(圖5略)。電流電壓的陽(yáng)極接工件，陰極接工具，陰極接欲去除毛刺 的 工件部位。電解液由泵驅(qū)動(dòng)后經(jīng)陰極流過(guò)陽(yáng)極工件的毛刺部位到達(dá)回流槽。工件以一定的速度旋轉(zhuǎn)，同時(shí)作軸向振動(dòng)。在垂直于工件軸線及電力線的平面方向上加直 流強(qiáng)磁場(chǎng)，在磁場(chǎng)中填入游離狀的磁性磨料，由磁磨料組成的"磨料刷"迅速?zèng)_擊工件表面，去除突起的毛刺和實(shí)現(xiàn)光整加工。這種復(fù)合研磨加工方法適用于強(qiáng)度高、高硬度和高韌性材料的精密去毛刺和光整加工。其效率為磁場(chǎng)力研磨法的2倍，并可提高2個(gè)等級(jí)的工件表面粗糙度，加工后不會(huì)產(chǎn)生二次毛刺。

　　2.2、基于機(jī)械——化學(xué)作用的超精密研磨方法

　 　機(jī)械化學(xué)研磨是在微粉粒子的撞擊和研磨液的化學(xué)作用下產(chǎn)生研磨作用，去除工件表面的微量材料。該方法經(jīng)濟(jì)性好、生產(chǎn)率高。不僅可達(dá)到很高的表面粗糙度等 級(jí)，而且加工的幾何精度也很高，并在被加工表面幾乎不產(chǎn)生變質(zhì)層，這對(duì)微電子功能材料的加工有很重要的應(yīng)用價(jià)值。其工作原理圖如圖6所示(圖6略)。

　　研磨盤(pán)上澆鑄有錫層，圓周方向切槽，用金剛石工具來(lái)削研磨盤(pán)端面，使其具有較高的平面并呈鏡面。研磨盤(pán)與工件軸以 20～200r/min 的轉(zhuǎn)速作高精度旋轉(zhuǎn)，工件固定在工件軸上，工件軸與研磨盤(pán)主軸的轉(zhuǎn)動(dòng)方向相同。在液體動(dòng)壓效應(yīng)的作用下，使工件以幾微米的上浮間隙懸浮在研磨盤(pán)上，工件在研磨液的化學(xué)作用及微粉粒子的撞擊下產(chǎn)生研磨作用。由日本名古屋工業(yè)技術(shù)研究所生產(chǎn)的 SP46 超精密研磨機(jī)就是典型的一臺(tái)基于機(jī)械化學(xué)作用的超精密研磨機(jī)。該機(jī)使用 0.02?m 的 SiO 2 微粉粒子加工硅片，表面粗糙度可達(dá)到 2nm，殘余應(yīng)力幾乎為零。在該機(jī)上研磨直徑為 100mm，厚度為 30mm 的 BK7 光學(xué)玻璃，平面度可達(dá)到 0.031?m，表面粗糙度 RMS(均方根偏差)可達(dá)到 3.8nm。 由于本研磨法對(duì)材料的去除率較低，所以要求被加工件的毛坯本身有一定的精度與表面質(zhì)量。在研磨前，被加工件的精度應(yīng)操作在：平面度(2～3)?m、表面粗糙度 RMS(0.1～0.2)?m 的范圍內(nèi)。否則有可能會(huì)造成無(wú)法實(shí)現(xiàn)研磨的惡果，釀成工件的損壞。

　　2.3、液面研磨拋光

　 　液面研磨拋光又稱水面滑行拋光(Hydroplane Polishing)。液面研磨拋光裝置如圖7所示(圖7略)。該研磨方法的明顯特點(diǎn)是不使用磨料，研拋時(shí)工件與拋光盤(pán)(水晶平板)之間由流體壓力形成間 隙，利用具有腐蝕作用液體的運(yùn)動(dòng)進(jìn)行研拋，因此，它是一種化學(xué)腐蝕加工方法。加工中使用的腐蝕液為甲醇、乙二醇與溴的混合液。主要用來(lái)加工 CaAs、InP 基片表面。

　　2.4、水合研磨拋光

　 　水合研磨拋光是一種積極利用在工件臨界面上生成水合化反應(yīng)的研磨拋光方法。 其主要特點(diǎn)是不使用磨粒和加工液，而加工裝置又與目前使用的拋光機(jī)相似，只是在水蒸汽環(huán)境中進(jìn)行加工。為此，要盡量避免使用能與工件產(chǎn)生固相反應(yīng)的材料拋 光盤(pán)。圖8為水合拋光裝置(圖8略)。隨著拋光盤(pán)的旋轉(zhuǎn)，工件保持架在它上邊作往復(fù)運(yùn)動(dòng)。在水合拋光過(guò)程中，兩個(gè)物體產(chǎn)生相對(duì)摩擦，在接觸區(qū)產(chǎn)生高溫高 壓，工件表面上的原子或分子呈活性化。利用過(guò)熱水蒸汽分子和水作用其表面，使之在基面上形成水合化層。借助過(guò)熱水蒸汽(不是游離磨粒)從工件表面上將該水 合化層分離、去除，去除厚度為零點(diǎn)幾個(gè)納米，所以可獲得無(wú)劃痕、平滑光澤無(wú)畸變的潔凈面。

　　水合研磨拋光非常適合于要求表面平滑性好、平面度要求高、結(jié)晶無(wú)畸變和潔凈度高的藍(lán)寶石和硒化鋅晶體(用于 CO 2 激光器的光學(xué)元件)的超精密加工。另外，作為親水材料的玻璃、水晶、MgO、Y 2O 3、MgAl 2O 4 等，也宜用水合拋光。

　　2.5、超聲研磨拋光

　　超聲研磨拋光是一種非接觸超精密研磨方法。其加工原理如圖9所示(圖9略)。 超聲振動(dòng)工具頭的端面與工件表面保持一固定的間隙?，并在其間充以微細(xì)磨粒工作 液，當(dāng)超聲振動(dòng)工具以一定的頻率振動(dòng)時(shí)，帶動(dòng)微細(xì)磨粒沖擊工件表面，從而對(duì)工件表面進(jìn)行研磨。

　　超聲研磨時(shí)，大量的磨粒以與超聲振動(dòng)相同的頻率、脈沖式的沖擊被加工表面， 除去或改造工件表面原有的變質(zhì)層，并在其下面構(gòu)成新的變質(zhì)層(即表面加工層)。 如果振幅值、研磨壓力、工具轉(zhuǎn)速等工藝參數(shù)選擇合理，則可使新生成的變質(zhì)層更薄、更均勻，從而獲得幾乎無(wú)損傷的表面。

　　超聲研磨應(yīng)用范圍廣，可加工各種硬脆材料，可以加工平面，也可加工復(fù)雜曲面。目前用超聲研磨可在 3mm 厚的玻璃上鉆出直徑為 0.1～1.0mm 的小孔。同時(shí)其單位時(shí)間內(nèi)的切除率較高，勻需復(fù)雜的技術(shù)，所需設(shè)備也較簡(jiǎn)單，故可獲得較高的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效果。在許多場(chǎng)合，如在玻璃上鉆小孔或加工超薄工件時(shí)，超聲研磨是一種值得選擇的工藝或是只能夠選擇的工藝。

　　2.6、離子束拋光

　 　與傳統(tǒng)的機(jī)械拋光方法不同，離子束拋光采用被充電的高能原子或離子(離子的質(zhì)量較原子質(zhì)量更大，因而可獲得更大的動(dòng)能)，在真空狀態(tài)下由離子機(jī)射向工 件，當(dāng)帶有很高能量的離子撞擊工件表面時(shí)，在撞擊點(diǎn)上材料以原子量級(jí)實(shí)現(xiàn)去除。材料的去除量取決于離子束在該點(diǎn)的濺射時(shí)間。由于離子束拋光是在原子量級(jí)上 實(shí)現(xiàn)材料的去除，因而材料的去除率較低，為此在采用該方法前，工件要經(jīng)過(guò)傳統(tǒng)方法的預(yù)拋光，在基本達(dá)到精度要求后再采用離子束拋光對(duì)工件表面面形(如球 面、非球面、非對(duì)稱的自由曲面等)實(shí)現(xiàn)很高精度的修正。雖然離子束拋光制造所需要的設(shè)備投本較大，運(yùn)行成本較高，但對(duì)于某些具有特殊高精度要求的光學(xué)大型 鏡面還是必須采用離子束拋光方法。

　　與傳統(tǒng)的光學(xué)加工方法相比，離子束拋光方法具有以下幾個(gè)好的點(diǎn)： (1)可在原子量級(jí)上實(shí)現(xiàn)材料確定性的超精密加工; (2)通過(guò)一次加工過(guò)程即可實(shí)現(xiàn)對(duì)面形誤差的完全修正; (3)對(duì)外界環(huán)境的振動(dòng)、溫度變化以及裝卡穩(wěn)定性不敏感;(4)由于離子束拋光需在真空中進(jìn)行，故可將拋光與鍍膜過(guò)程在同一真空罐中進(jìn)行; (5)工件不會(huì)出現(xiàn)塌、翹邊的邊緣效應(yīng)。

　　三、結(jié)束語(yǔ)

　 　上述幾種超精密研磨拋光方法與傳統(tǒng)的研磨方法有本質(zhì)的區(qū)別。其加工原理各不相同，加工特點(diǎn)也均不相同，為此在選用上述超精密研磨方法時(shí)，應(yīng)根據(jù)工件材料 類型、加工要求及生產(chǎn)效率等情況來(lái)慎重選用。這樣才能使工件獲得良好的加工精度及表面質(zhì)量，并取得較高的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效果。

　　今后，隨著科技的發(fā)展及前列領(lǐng)域的需要，必將會(huì)出現(xiàn)更新、更多的超精密研磨拋光方法。采用復(fù)合研磨拋光加工及軟質(zhì)磨料(甚至比工件還要軟)加工是未來(lái)超精密研磨拋光加工的發(fā)展動(dòng)向